型号：ORION NanoFab
厂家： 美国蔡司公司
性能指标:

He离子束系统：

分辨率：0.5 nm

加速电压： 10KV-30 kV

离子束流：0.1 pA 至20pA

加工线宽：≤ 10nm

Ne离子束系统：

分辨率：1.9 nm

加速电压： 10KV-25 kV

离子束流：0.1 pA 至 50pA

加工线宽：10-30 nm

Ga离子束系统：

分辨率：3 nm@30kV,1pAnm@30kV,1pA

加速电压： 1KV-30 kV

离子束流：1 pA 至 100nA

加工线宽：30 nm

辅助气体注入系统：

沉积材料：离子束/电子束诱导的SiO₂、W 沉积

样品尺寸：最大2英寸

责任工程师：田士兵

    该设备可根据需要对材料进行亚纳米级到微米的精确加工和高分辨成像。利用其配置的氦、氖、镓三离子束和气体注入系统对样品材料按照需求进行高精度、高效、大范围的切割或沉积，并进行原位高分辨成像。