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加工设备
> 电子束曝光系统
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 氦氖离子显微镜 ORION
> 紫外曝光系统
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> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
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刻蚀设备
> ⅢⅤ半导体等离子体刻蚀
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> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
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沉积设备
> 超高真空电子束蒸发系统
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 等离子体增强化学气相沉积
> 化学气相沉积系统 ICP-PECVD
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测量设备
> 超高分辨场发射扫描电镜
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 半导体特性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
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辅助设备
> 临界点干燥仪
> 切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 显微镜
纳米压印机
型号:
Eitre-3
厂家:
瑞典Obducat公司
技术指标:
压印精度:20nm
重复性:±10nm(pitch)
±15nm(depth)
压印温度范围:室温至200°C
最大压力:70 Bar
冷却方式:气冷
模板尺寸:77mm
基座尺寸:10-77mm
扩展附件:紫外光源(波长250-450nm,功率40-100mW/cm2)、加热台(升温速度0.5-1K/sec)
责任工程师:
金爱子
联系方式:
82648198; azjin@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼超净间百级区
主要功能及应用范围:
采用气体软压技术,压印均一性与一致性良好。可分别独立采用热压、紫外聚合,也可以将热压紫外聚合联合使用。典型使用领域:光子晶体、亚波长光学器件、OLED、生物微沟道、有机薄膜晶体管等。