型号： DZ-300
厂家： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
技术指标:
  （1）极限真空度：≤6.67x10^-5 Pa (经烘烤除气后).
  （2）系统真空检漏漏率：≤5.0×10^-7 Pa.l/S.
  （3）系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6.67×10^-4Pa.
 （4）基片尺寸：可放置4″基片.
 （5）蒸发过程保证样品温度≤80℃.
 （6）基片公转可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；样品可实现自转功能，单独电机驱动，样片基台表面与公转回转中心夹角任意可调.
 （7）基片与蒸发源之间距离300～350mm可调，由腔外手动波纹管调节机构控制.

    通过电阻加热的方式，将蒸发材料蒸镀到样品表面，获得均匀薄膜。适用于制备金属薄膜，尤其适用于高性能薄膜研究及新材料科学研究工作。