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仪器设备
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加工设备
> 电子束曝光系统
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 氦氖离子显微镜 ORION
> 紫外曝光系统
> DTL光学曝光系统
> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
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刻蚀设备
> ⅢⅤ半导体等离子体刻蚀
> 反应离子刻蚀 Plasma80
> 反应离子刻蚀 NGP80
> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
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沉积设备
> 超高真空电子束蒸发系统
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 等离子体增强化学气相沉积
> 化学气相沉积系统 ICP-PECVD
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测量设备
> 超高分辨场发射扫描电镜
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 半导体特性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
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辅助设备
> 临界点干燥仪
> 切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 显微镜
多通道电化学工作站
型号:
VSP-300
厂家:
Bio-Logic,法国
技术指标:
配置4个通道,可同时对4个样品进行测量
电压量程:+/-10V;分辨率:1μV;
电压测试精度:<0.1%;
电流量程:1pA~1A;
电流分辨率:100aA;
电流测试精度:<0.1%;
EIS阻抗频率测试范围:10μHz - 7MHz;
EIS频率分辨率:<0.001%;
带宽:8MHz;
上升/下降时间:<200ns;
数据采集速率:1,000,000点/秒;
输入阻抗:100TΩ;
输入偏置电流:<1pA;
责任工程师:
全
保
刚
联系方式:
82648160; quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼202-1
主要功能及应用范围:
VSP-300电化学工作站用于电化学特性研究,主要测量电极上进行的电化学过程中的参量变化,两个功能强大的软件包(EC-Lab和EC-Lab Express软件)使其具有测量范围广、灵活的特点, 可进行恒电流、恒电位、循环伏安法、交流阻抗法、交流伏安法、脉冲法等测量,同时多通道工作站可以进行多个样品测试;该设备应用领域包括:纳米材料及其器件的基础电化学特性、传感器件、超级电容器及电池,电镀、电合成,以及催化、防腐以及生化等方面的研究。