型号： Plasmalab80Plus
厂家： 英国牛津仪器
技术指标:
  反应气体：O₂, Ar, CF₄，CHF₃，SF₆
  RF最大功率：600W
  电极尺寸：240mm
  刻蚀材料：氧化物、半导体、金属等
  最大晶片尺寸：6英寸
责任工程师：张忠山

    用于各种材料的离子束反应刻蚀，辅助形成微/纳结构。可用于各种微纳器件与结构的制作，如：微纳电子器件，光电子器件，生物传感器，微纳机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等，也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。