型号： Peva-600E
厂家： 台湾聚昌科技股份有限公司
技术指标:
 （1）可沉积各种金属材料包括难熔金属、绝缘材料的高纯度、高质量薄膜样品.
 （2）具有高真空(< 2×10^-7Torr ), 低腔温（<90℃），适合Lift-Off制程要求.
 （3）可装载标准的2"和4"的晶片和不规则大小的样品，样品的均匀性 <3%.
 （4）设置6个坩锅，可以完成不同金属薄膜的多层沉积.
 （5）配有膜厚仪实时对膜厚进行检测，实现对薄膜的厚度的精确控制。
 （6）配备软件操作系统，可编制沉积程序，并可选择进行手动和自动制程。

    利用电子束这种种高速的电子流对膜料轰击产生的热效应实现薄膜蒸镀。本系统含多个蒸发源，可以制备多层堆垛薄膜。电子束蒸发系统在微纳米加工技术中占有重要地位。