型号： MA6
厂家： 德国Karl Süss公司
技术指标:
  曝光光源：UV300
  光源波长：365nm
  光源均匀性：<3.1%
  晶片尺寸：2-6英寸
  接触方式：真空，低真空接触, 硬接触，软接触和接近式接触
  对准模式：正和背面两种对准方式
  最小线宽：0.5 μm
  对准精度: ±0.5 μm
责任工程师：全保刚

    采用紫外光源，制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作下列器件结构：微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等，也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。