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仪器设备
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加工设备
> 电子束曝光系统
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 氦氖离子显微镜 ORION
> 紫外曝光系统
> DTL光学曝光系统
> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
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刻蚀设备
> ⅢⅤ半导体等离子体刻蚀
> 反应离子刻蚀 Plasma80
> 反应离子刻蚀 NGP80
> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
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沉积设备
> 超高真空电子束蒸发系统
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 等离子体增强化学气相沉积
> 化学气相沉积系统 ICP-PECVD
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测量设备
> 超高分辨场发射扫描电镜
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 半导体特性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
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辅助设备
> 临界点干燥仪
> 切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 显微镜
纳米压痕仪
型号:
Nano Indenter G200 XP
厂家:
美国keysight公司
技术指标:
配备连续刚度模块
最大载荷:500mN
载荷分辨率:50nN
最小接触力:10μN
最大压入深度:500μm
Z方向可变行程:1.5mm
XY方向位移分辨率:1μm
放大倍数:光学CCD放大x25,物镜x10,物镜x40
框架刚度:~5X10
6
N/m
责任工程师:
金爱子
联系方式:
82648198; azjin@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
可用于常规金属、陶瓷、半导体、有机等块体材料弹性模量和刚度测试,以及相关薄膜结构材料的弹性模量、刚度测试和粘附力测试。