中 文 版
English
首 页
实验室简介
研究方向
人员构成
仪器设备
技术培训
用户指南
信息反馈
仪器设备
●
加工设备
> 电子束曝光系统
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 氦氖离子显微镜 ORION
> 紫外曝光系统
> DTL光学曝光系统
> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
●
刻蚀设备
> ⅢⅤ半导体等离子体刻蚀
> 反应离子刻蚀 Plasma80
> 反应离子刻蚀 NGP80
> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
●
沉积设备
> 超高真空电子束蒸发系统
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 等离子体增强化学气相沉积
> 化学气相沉积系统 ICP-PECVD
●
测量设备
> 超高分辨场发射扫描电镜
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 半导体特性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
●
辅助设备
> 临界点干燥仪
> 切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 显微镜
电子束蒸发系统
电子束蒸发系统 FU-12PEB
型号:
FU- 12PEB
厂家:
台湾富临科技工程股份有限公司
技术指标:
(1)极限真空:3 ×10
-7
Torr(12hr).
(2)工作真空:3×10
-6
Torr(冷泵抽20min后).
(3)温度要求:Max. 200℃,加热丝.
(4)温度均匀性:≦±5℃.
(5)膜厚均匀性: ≦±5%.
(6)载片台:ψ6英寸.
责任工程师:田士兵
联系方式:
82648198;
tianshibing@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
利用电子束这种种高速的电子流对膜料轰击产生的热效应实现薄膜蒸镀。本系统含多个蒸发源,可以制备多层堆垛薄膜。电子束蒸发系统在微纳米加工技术中占有重要地位。