型号： PS210
厂家： 美国
技术指标:
  频率：2.456GHz；
  反应气体：氧气；
  样品尺寸：最大6英寸
责任工程师：杨海方

      微波等离子体去胶机，是半导体工业及从事微纳加工工艺研究的必要设备，主要用于半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，各类光刻胶的干法去除、基片清洗和电子元件的开封等。主要应用：等离子体表面改性、 有机物表面等离子体清洁、等离子体刻蚀应用、 等离子体灰化应用、 增强或减弱浸润性等。