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仪器设备
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光刻单元
> 高压电子束曝光系统
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刻蚀单元
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> 电感耦合等离子刻蚀机
> 反应离子刻蚀系统
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> 酸碱湿法腐蚀台
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沉积单元
> 超高真空电子束蒸发系统
> 超高真空磁控溅射镀膜机
> 富氧电子束蒸发沉积系统
> 电子束蒸发系统
> 原子层沉积系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 离子束溅射沉积系统
> 晶圆光刻预处理系统
> 离子溅射仪
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表征单元
> 扫描探针显微镜
> 激光共聚焦显微镜
> 台阶仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 光学显微镜
> 四探针电学测试系统
> 薄膜应力测量仪
> 椭偏仪
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辅助单元
> 砂轮切片机
> 激光切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 程控旋转涂胶机
> 程控干胶仪
> 真空烘箱
晶圆光刻预处理系统 310TA
型号：
310TA
厂家：
美国YES
技术指标:
（1）最大样品尺寸：8英寸
（2）温度范围：
25℃ ~ 160℃
（3）控温精度：≤±1℃
责任工程师：
潘如豪
联系方式：
81258505; panruhao@iphy.ac.cn
仪器位置：
怀柔微纳加工实验室超净间
主要功能及应用范围：
晶圆表面蒸镀HMDS增强与光刻胶的粘附性；具有图形反转功能形成容易剥离的光刻胶图形结构。
