中国科学院物理研究所微加工实验室

仪器设备

● 光刻单元

● 刻蚀单元

● 沉积单元

● 表征单元

● 辅助单元

电感耦合等离子刻蚀机 SI 500

型号：SI 500
厂家：德国Sentech公司
性能指标:

最大样品尺寸：8英寸

衬底温度范围：-20℃~250℃

刻蚀深宽比：≥5:1

选择比：PR/GaAs: ≥ 4:1; SiO₂/InP>10:1

刻蚀均匀性：＜5%

侧壁倾斜角：90°±1°

责任工程师：李瑶

联系方式：81258579; liyao13@iphy.ac.cn

仪器位置：怀柔微纳米加工平台超净间

主要功能及应用范围：

用于氧化物、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅等材料的刻蚀。