型号：NX5000
厂家：日本日立公司
性能指标:

Ga离子束系统：

Ga⁺分辨率：≤ 4 nm @ 30 kV

二次电子分辨率：≤1.5nm@1KV；0.7nm@15KV

可沉积金属：C、W、Pt

最大样品尺寸：2cm×2cm

 

     聚焦离子束双束系统配有电子束、Ga+和Ar离子三束系统，可用于各种结构的制作，同时具有高分辨成像功能。常用于制备微纳电子器件、光电子器件、生物传感器、DNA探测器、微纳机电系统、超导电子学器件、磁电子学器件以及低维材料输运性质测量的纳米电极。还可以通过离子束辐照诱导微纳米材料的形变来进行应变加工，用于光学、电学、磁学、生物等三维新型结构与器件的构建。另外，此设备安装有高精度纳米机械手，方便制备TEM样品以及对微纳米材料进行操控。