型号： RIE-200NL Dual
厂家： 日本 SAMACO
技术指标:
  反应气体：O₂, Ar, CF₄，CHF₃，SF₆

  最大样品尺寸：8英寸
  刻蚀速率：≥20nm/min
  选择比：Si/PMMA≥1；Al/PMMA≥0.5
  均匀性：≥95%
  重复性：≥97%

    主要用于硅基材料的刻蚀，包括硅、氧化硅、氮化硅等，可用于各种微纳器件与结构的制作，如：微纳电子器件，光电子器件，生物传感器，微纳机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等，也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。