中国科学院物理研究所微加工实验室

仪器设备

● 光刻单元

● 刻蚀单元

● 沉积单元

● 表征单元

● 辅助单元

离子束溅射沉积系统

型号：ZNDJ-100-F100
厂家： 中能氢芯

技术指标:
（1）极限真空：≤5×10^-4 Pa
（2）样品最大尺寸：4英寸
（3）薄膜均匀性：≤5 %
（4）加热最高温度：450℃
（5）工艺气体：O₂

责任工程师：季旭

联系方式：81258579; jixu@iphy.ac.cn

仪器位置：怀柔微纳加工实验室超净间

主要功能及应用范围：

离子束溅射沉积系统可实现沉积氧化物、氮化物等薄膜，如Ta₂O₅、TiN等。