型号： JEB-4
厂家： 台湾铠柏科技有限公司

技术指标:
 （1）极限真空：≤5×10^-10torr
 （2）样品最大尺寸：4英寸
 （3）薄膜均匀性：≤3 %
 （4）倾斜角度：±75°
 （5）静态氧化范围：1 – 10 Torr
 （6）动态氧化范围：5X10^-3 – 3 Torr

    设备配有进样室、离子铣室、蒸镀室、氧化室四个腔室，可用于金属材料的电子束沉积与氧化过程。