型号： JSP-4
厂家： 台湾铠柏科技有限公司

技术指标:
 （1）极限真空：≤2×10-10torr
 （2）样品最大尺寸：4英寸
 （3）薄膜均匀性：≤3 %
 （4）最高加热温度：≥850℃
 （5）溅射靶尺寸：3英寸
 （6）射频源功率：功率≥500W

    在超高真空环境下磁控溅射沉积薄膜，如Nb、Ta、Au等金属薄膜，氧化物、氮化物等介质薄膜，Fe等磁性薄膜，以及低温沉积Al薄膜；同时可用于超高真空环境下基底的Ar离子清洗。