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仪器设备
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光刻单元
> 高压电子束曝光系统
> 电子束扫描/直写系统
> 激光直写设备
> 紫外曝光系统
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刻蚀单元
> 聚焦离子束双束系统
> 反应离子束刻蚀机
> 电感耦合等离子体深硅刻蚀
> 电感耦合等离子刻蚀机
> 反应离子刻蚀系统
> 氩离子束刻蚀设备
> 微波等离子体去胶机
> 酸碱湿法腐蚀台
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沉积单元
> 超高真空电子束蒸发系统
> 超高真空磁控溅射镀膜机
> 富氧电子束蒸发沉积系统
> 电子束蒸发系统
> 原子层沉积系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 离子束溅射沉积系统
> 晶圆光刻预处理系统
> 离子溅射仪
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表征单元
> 扫描探针显微镜
> 激光共聚焦显微镜
> 台阶仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 光学显微镜
> 四探针电学测试系统
> 薄膜应力测量仪
> 椭偏仪
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辅助单元
> 砂轮切片机
> 激光切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 程控旋转涂胶机
> 程控干胶仪
> 真空烘箱
原子层沉积系统
型号:
Exploiter E200SP
厂家:
深圳原速科技
技术指标:
最大样品尺寸:8英寸
生长温度:90-500℃
温度控制精度:±1℃
膜厚均匀性:≤3%
等离子体源功率:500W
臭氧产量:5g/h
臭氧毁灭器处理能力:30L/h
责任工程师:
季旭
联系方式:
81258579; jixu@iphy.ac.cn
仪器位置:
怀柔微纳加工实验室超净间
主要功能及应用范围:
微纳电子学、纳米材料及相关器件等领域,可作为集成电路中MIM电容器涂层,防反射包覆层,多层结构光学电介质,有机发光显示器抗湿涂层以及应用在太阳能电池和MEMS微机电系统等领域。