型号： ASTRO PACTO-10G
厂家： 德国 Alpha Plasma
技术指标:
  最大样品尺寸：8英寸
  反应气体：氧气、氩气；

  刻蚀速率范围：50nm/min~400nm/min
  微波功率：100-1200W
责任工程师：潘如豪

      微波等离子体去胶机，是半导体工业及从事微纳加工工艺研究的必要设备，主要用于半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，各类光刻胶的干法去除、基片清洗和电子元件的开封等。主要应用：等离子体表面改性、 有机物表面等离子体清洁、等离子体刻蚀应用、 等离子体灰化应用、 增强或减弱浸润性等。