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光刻单元
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沉积单元
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> 原子层沉积系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 离子束溅射沉积系统
> 晶圆光刻预处理系统
> 离子溅射仪
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表征单元
> 扫描探针显微镜
> 激光共聚焦显微镜
> 台阶仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 光学显微镜
> 四探针电学测试系统
> 薄膜应力测量仪
> 椭偏仪
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辅助单元
> 砂轮切片机
> 激光切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 程控旋转涂胶机
> 程控干胶仪
> 真空烘箱
反应离子束刻蚀机 HassrodeLoremR
型号：
HassrodeLoremR
厂家：
江苏鲁汶仪器
性能指标:
最大样品尺寸：8英寸
闪耀角范围：30°~90°
倾斜角范围：35°~89°
最小线宽：100nm
刻蚀深宽比：4:1@CD=100nm
选择比：SiO:Cr=4:1
责任工程师
：张忠山
联系方式：
82649098/81258505; zhangzs@iphy.ac.cn
仪器位置：
怀柔微纳加工实验室超净间
主要功能及应用范围：
用于硅基材料闪耀光栅和倾斜光栅的刻蚀加工
