中 文 版
English
首 页
实验室简介
研究方向
人员构成
仪器设备
技术培训
用户指南
信息反馈
仪器设备
●
光刻单元
> 高压电子束曝光系统
> 电子束扫描/直写系统
> 激光直写设备
> 紫外曝光系统
●
刻蚀单元
> 聚焦离子束双束系统
> 反应离子束刻蚀机
> 电感耦合等离子体深硅刻蚀
> 电感耦合等离子刻蚀机
> 反应离子刻蚀系统
> 氩离子束刻蚀设备
> 微波等离子体去胶机
> 酸碱湿法腐蚀台
●
沉积单元
> 超高真空电子束蒸发系统
> 超高真空磁控溅射镀膜机
> 富氧电子束蒸发沉积系统
> 电子束蒸发系统
> 原子层沉积系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 离子束溅射沉积系统
> 晶圆光刻预处理系统
> 离子溅射仪
●
表征单元
> 扫描探针显微镜
> 激光共聚焦显微镜
> 台阶仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 光学显微镜
> 四探针电学测试系统
> 薄膜应力测量仪
> 椭偏仪
●
辅助单元
> 砂轮切片机
> 激光切片机
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 程控旋转涂胶机
> 程控干胶仪
> 真空烘箱
光刻单元
高压电子束曝光系统
电子束扫描/直写系统
激光直写设备
紫外曝光系统
刻蚀单元
聚焦离子束双束系统
反应离子束刻蚀机
电感耦合等离子体深硅刻蚀
电感耦合等离子刻蚀机
反应离子刻蚀系统
氩离子束刻蚀设备
微波等离子体去胶机
酸碱湿法腐蚀台
沉积单元
超高真空电子束蒸发系统
超高真空磁控溅射镀膜机
富氧电子束蒸发沉积系统
电子束蒸发系统
原子层沉积系统
等离子体增强化学气相沉积
离子束溅射沉积系统
晶圆光刻预处理系统
离子溅射仪
表征单元
扫描探针显微镜
激光共聚焦显微镜
台阶仪
白光干涉表面形貌仪
光学显微镜
四探针电学测试系统
薄膜应力测量仪
椭偏仪
辅助单元
砂轮切片机
激光切片机
快速退火炉
超声波引线仪
程控旋转涂胶机
程控干胶仪
真空烘箱
