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实验室简介
研究方向
人员构成
仪器设备
技术培训
用户指南
信息反馈
人员构成
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实验室主任
> 杨海方
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实验室成员
> 李俊杰
> 全保刚
> 田士兵
> 金爱子
> 潘如豪
> 叶通
> 王博
> 杨乐臣
> 耿广州
> 李瑶
> 伦婷婷
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在读学生
> 付朋
> 谭俊豪
> 王芊昱
> 向远
> 汤志杨
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已毕业学生
> 已毕业学生
耿广州
副主任工程师，理学工学双硕士学位
电话：010-82649098
传真：010-82648198
邮箱：
genggz@iphy.ac.cn
办公地址：中科院物理所M楼201室
工作职责
电子束曝光（
M
楼）、
ICP
刻蚀（
M
楼） 、 反应离子刻蚀（
M
楼）、原子层沉积、划片机、椭偏仪、
Genisys
软件等设备的责任工程师
实验室安全监督员，全面负责实验室各项安全，废液处理
负责实验室普气和特气的采购与管理
实验室
M
楼百级净化间日常管理
简历
2013于青岛大学获硕士学位，2012年-2014年韩国东义大学硕士研究生，现任中科院物理所微加工实验室工程师
研究方向
Si基、III-V族材料的反应离子刻蚀工艺研究
Si基薄膜的化学气相可控生长工艺研究
三维微纳结构的加工与光电特性研究
科研成果
合作发表文章4篇，合作申请专利4项，其中韩国发明专利1项
