亚3nm金属纳米间隙与纳米孔的集成

等离激元的纳米孔及超小的金属纳米间隙有很多的应用。但是将两者相结合，在制备上存在很大的难度。荷兰代尔夫特理工大学的研究者利首先用两次电子束曝光+两次金属生长剥离的方法在自支撑的SiN薄膜上实现了1nm的纳米间隙的制备，然后利用透射电子显微镜聚焦电子束的刻蚀功能在纳米间隙的位置制备了SiN纳米孔，纳米孔的刻蚀过程中，纳米间隙会有一定程度的扩展，最终实现了亚3nm纳米间隙与纳米孔的集成（工艺过程见图1）。同时，利用制备的纳米间隙与纳米孔集成的器件实现了DNA单分子探测功能。相关工作发表在Small 14 (2018)1703307上。

相关链接：https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/smll.201703307

工艺过程及制备的纳米间隙与纳米孔TEM图