Eulitha PhableR 100 紫外光刻机

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，在高分辨率周期性结构加工方面具有独特的优势。与传统的紫外曝光机类似，这一系统可对涂覆了光刻胶的晶片在接近式模式下进行紫外光曝处理。在"PHABLE"模式下，可突破衍射极限，获得高均匀性亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形）阵列。另外，在掩模版对准模式下，易于加工微米尺寸的图形。这一设备的高分辨率忧于300nm pitch，可进行焦深几乎没有限制的非接触式全场曝光，并对表面不平的衬底进行图形制备。可用于加工的样品尺寸直径可达100mm，光源均匀度优于3%。在LED光萃取层、光谱仪光栅、蓝宝石衬底图形化（PSS）、磁性纳米结构、减反射图形、太阳能光伏、光栅、生物传感器、滤色镜、编码器标尺等加工中具有潜在的应用。