德国ALLRESIST公司专门从事紫外或电子束曝光工艺所需电子化学品的研发、生产和销售。产品覆盖了各种光刻工艺中使用的紫外光学光刻胶、电子束光刻胶、特殊工艺用胶(剥离工艺光刻胶(LOR)、导电胶、耐酸碱刻蚀光刻胶、耐高温光刻胶(聚酰亚胺)等)。3740紫外正性光刻胶的感光波段为宽紫外、i-线(365nm)、g-线(436nm);其厚度约为1.5um@4000rpm并可稀释使用;其分辨率与对比度分别为0.4μm@1.4μm与6.0。基于AR-P 3740所制备的结构具有优异的稳定性以及 耐干法刻蚀性能。
图1:利用AR-P 3740 光刻胶加工的宽度为1微米(左)与0.3微米(中)的图形