Raith GmbH 多离子源离子束光刻系统

Raith的ionLiNE系统采用了Raith独有的NanoFIBTWO离子枪，并集成了Raith电子束曝光机久经考验的激光干涉工作台和专业的曝光软件，具有长时间的稳定性，分辨率高，束流拖尾小，图形定位精确等优势，在二维三维纳米加工领域中具有非常重要的应用价值。另外，ionLiNE的多离子源选件，可选配共熔合金离子源来提供多种离子源，提供稳定的金、硅、锗离子，以及纳米尺寸的离子团簇。不仅可以避免镓离子的污染，还可以采用不同的离子束来实现功能化，高分辨率以及提高刻蚀速率。在光子学、等离子体、隔膜器件、三五族半导体材料、选择性生长及纳米尺寸材料的处理等研究中，ionLiNE具有潜在优势。

系统外观图	高分辨率和长时间稳定：X射线波带片
高拼接精度：4.2mm长的光子晶体波导与三维的微流体结构	多离子源选件：Au+成像

详情请参考： http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100250/C214316.htm