扫描探针光刻系统

光刻技术作为微纳米加工工艺中重要的一环，在芯片制造、光学元件加工以及微流器件制备中具有无法替代的作用。而通过各种途径减小光刻设备的最小制备线宽，在提高器件性能、减小器件体积中具有重要的意义。而目前极紫外光刻技术成本较高，传统的电子束光刻技术制备的结构一般在10 nm以上。为了进一步的减小光刻的最小线宽，来自德国的Nano analytic 公司提出了扫描探针光刻（SPL）系统，可以通过闭环回路使同一扫描探针实现对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。该系统的最小线宽可以低至5 nm，并且可以在大气环境下同时实现正负两种模式的光刻。该设备的应用将大大提高纳米结构的物性研究效率。

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