瑞士Phable R深紫外全息光刻系统

光刻机作为芯片制造以及图形加工的重要设备，在微纳结构加工中具有重要的应用价值。但是受光学衍射极限的限制，在百纳米以下的纳米级图形的加工中仍然存在一定的问题。来自瑞士的Eulitha公司，推出了基于深紫外光的PhableR系列全息光刻系统，该系统具有全息光刻模式以及对准光刻模式两种模式，其中全息光刻模式可以用来制备纳米级周期性结构，对准光刻模式可以进行任意微纳结构的制备。借助193nm的深紫外激光，其分辨率低至50 nm，且可以一次制备8寸的晶片而不存在写场拼接误差。其次，该设备操作简便，具有一键曝光的模式。该设备的使用对照明、激光器、光通信、高端显示、太阳能、传感器、仿生等器件的加工具有重要的作用。

相关链接：https://www.eulitha.com/technology/phabletm/

图：PhableR型深紫外全息光刻系统