随着三维结构的发展,如何快速、高效的观察、分析三维结构,尤其是三维微纳结构的构型及尺寸信息具有重要的意义。而传统的形貌观察设备,难以直观且精确地获取结构的表面形貌信息。为了达到这个目的,KLA‐Tencor公司推出了Zeta-20三维光学轮廓仪。Zeta‐20可以对近乎所有材料和结构进行成像分析,从超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介质。通过安装不同的配件,可以测试不同的结构,例如,基于ZDot™专利技术,Zeta‐20可以对近乎所有材料和结构进行成像分析,而ZIC 干涉反衬成像技术,实现纳米级粗糙度表面的成像及分析,ZSI 白光差分干涉技术,垂直方向分辨率可达埃级。其z方向分辨率可以最低可达5 nm,最高可到25 mm。除此之外,该设备可以实现对缺尺寸以及薄膜厚度等参数的测试,并最终通过结构的白光干涉特性实现结构表面形貌的构造。设备的使用将对三维结构的观察提供巨大方便,也会为三维微纳器件的高效加工提供重要保障。
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图1.Zeta三维光学轮廓仪。