F7000电子束曝光系统

型号：F7000 E-Beam Lithography

厂家：爱德万测试集团

技术指标:

最大分辨率：1Xnm 

支持的基板：圆晶片（300mm，200mm，6至3inch）；玻璃基板（6025）

光刻方法：CP,VSB

 

基本功能：F7000是一款具有卓越分辨率性能的电子束光刻系统，能满足1Xnm技术节点的要求。 F7000支持各种材料，尺寸和形状的基材，包括纳米压印模板和晶圆，并针对各种应用领域进行优化，如高级LSI，光子领域，MEMS和其他纳米工艺。 此外，用户可以选择最适合其需求的配置，无论是独立配置还是在线配置，如图1所示，使F7000能够支持从研发到批量生产的各种应用。

图1 F7000电子束曝光系统独立版、在线版两种配置

 

详情请参考：https://www.advantest.com/products/e-beam-lithography/f7000