聚焦离子束FIB加工技术作为微纳制造的关键技术之一,经常被用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。近年来,聚焦氦离子束更是凭借其超高分辨能力在极小尺度、极高精度加工中发挥着更为不可替代的作用。但是,在大面积图形制备中,聚焦离子束技术存在加工效率的挑战,很大程度上制约了其在器件加工中的应用。
针对此问题,湖南大学的段辉高教授研究组提出了一种“轮廓图形化-剥离”新工艺,这一工艺的加工流程如图1所示,即通过衬底上金属薄膜的生长 (Film growth),FIB的纳米图形轮廓加工 (FIB defining outlines),粘膜覆盖(pasting a tape)以及掀起剥离 (stripping),从而通过选择性地去除轮廓外多余的金属薄膜而获得目标结构。这一方法具有快速、高精度等特点,为制造纳米光学天线等结构提供了一种全新的制造途径,相关工作发表在ACS Nano(DOI:10.1021/acsnano.6b06290)上。
相关链接:http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsnano.6b06290
图1:基于FIB的纳米等离激元结构加工步骤示意图:(a)传统刻蚀加工;(b)“轮廓图形化-剥离”方法。
图2:基于FIB的轮廓图形化-剥离”方法加工的各种纳米等离激元结构图形。