2016年第3期,总第007期

ASML公司最新深紫外光刻机

ASML公司生产的TWINSCAN NXE平台是用于极紫外光刻的最早的设备平台。而NXE:3350B是NXE:3300B型号的更高级版本,可以通过离轴照明技术实现16nm工艺。

NXE步进式扫描系统使用的是激光等离子体光源发出的13.5nm极紫外光。它使用Carl Zeiss SMT的4 x缩影镜头,数值孔径为0.33,最大曝光场面积为26mm×33mm。

NXE:3300B的具体参数如下:

NA 0.33
Resolution ≤ 16 nm
Overlay
  •   •Dedicated chuck
  •   •1.5 nm

 
≤ 1.5 nm
≤ 2.5 nm

Productivity ≥ 125 wph

 

详情请参考: https://www.asml.com/products/systems/twinscan-nxe/twinscan-nxe3350b/en/s46772?dfp_product_id=9546