Eulitha公司极紫外光栅
光栅结构在提高衍射效率及传输效率上，具有潜在的应用。最近，Eulitha公司采用高分辨电子束曝光工艺，制作了纳米尺度的各种周期性结构。这些光栅以及圆孔阵列结构构筑在从上至下依次为Si3N4薄膜/Si支撑薄膜/Si衬底的框架上，Cr金属光栅的长度可达数毫米，宽度可低至80 nm。可用于包括光谱学与极紫外干涉曝光的多个领域。
图1：大面积高精度光栅结构示意图以及阵列的SEM照片。
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