德国DTF公司的EOSS磁控溅射高精度光学镀膜系统
光学器件的质量与光学图层的质量息息相关。德国EOSS高精度光学镀膜系统是专门用于高精度光学镀膜磁控溅射系统，可在200 mm的基片上沉积高质量多层光学涂层。设备的主要特点包括筒式向上溅射配置，减小颗粒影响，保证最优均匀性； 可旋转基片处理腔(可同时容纳12片基片) 并配置4个靶位，可装载磁控溅射靶枪或者预处理源。同时具有内置原位光学测量系统MOCCA并可配备基片传送系统。工作靶枪具有中频或射频溅射的磁控溅射靶枪，可进行CARS、Metamode与化学反应处理。可生长的材料包括SiO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、ZrO2、HfO2、混合化合物、金属。可在12×φ200mm基片上实现均匀性≤+/-0.15%的快速沉积，获得的沉积速率≤0.6nm/s，在凹口/多凹口滤波器、带通滤波器、分束器、高/低波反射镜、偏振器、电介质金属混合层以及啁啾镜等领域具有广泛的应用。
设备结构图
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