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微加工实验室唐成春参加第17届原子层沉积暨第4届原子层刻蚀国际会议

微加工实验室    2017年7月20日


     

       国际原子层沉积会议和国际原子层刻蚀会议是微纳米加工、制造与应用领域两项重要的国际学术会议。2017年7月15日-18日第17届国际原子层沉积会议暨第4届国际原子层刻蚀会议(ALD&ALE 2017)由美国真空物理协会(AVS)主办,在美国中西部城市丹佛市举行。原子层沉积是二维及三维半导体加工和器件制造的核心工艺,此次国际原子层沉积会议聚焦“区域选择性沉积”这一未来微电子加工领域至关重要的技术,并关注了原子层沉积在太阳能电池、锂离子电池和其他能源领域以及生物医药等诸多领域的渗透和发展。此次会议共收到427篇摘要投稿,数量高于往年,其中原子层刻蚀部分显著增长,收稿44篇,比往年增加了30%,表现出学术界对原子层刻蚀领域逐渐增长的兴趣,以及对未来实现原子尺度加工的美好期待。

       微加工实验室在原子层沉积工艺上有多年积累,服务于物理所内外各课题组,取得良好效果,并在技术转移和人才培养上做出贡献。在此基础上,微加工实验室把握纳米加工技术发展动向,不断开发新材料,如导电薄膜、透明导电薄膜、磁性薄膜、过渡金属硫化物二维半导体薄膜等原子层沉积工艺,并开展原子层刻蚀新工艺研究和新设备搭建,取得了阶段性成果。微加工实验室唐成春工程师参加了此次国际学术交流会议,投稿会议文章一篇,并通过张贴报告介绍了微加工实验室近期在导电氮化钛薄膜制备工艺,及新开发高真空退火辅助拉曼光谱术对不同工艺条件下制备的超薄薄膜进行无损伤组分研究的进展,结果引起同行广泛关注。会议期间,唐成春工程师与国际学术界和产业界同行进行了广泛交流,并建立联系,为后续国际技术交流与合作奠定基础。此次参会受到中科院仪器功能开发项目及基金委纳米制造重大项目与青年基金项目支持,在此对科学院和基金委表示感谢!(会议网站链接 https://aldconference.avs.org/)。

ALD&ALE2017会址美国丹佛市会展中心

 

ALD&ALE2017主会场

 

ALD&ALE2017分会场之ALE分会场和张贴报告分会场

微加工实验室参会代表唐成春工程师

唐成春与会议主席Steven M. George教授合影