仪器设备

超高真空多腔室电子束蒸发镀膜系统

多腔室电子束蒸发镀膜系统 JEB-4

型号: JEB-4
厂家: 台湾铠柏科技有限公司
技术指标:
  (1)四个腔室之间可进行样品自动传输
  (2)最大样品尺寸4”
  (3)本底真空度≤5E-10 Torr
  (4)镀膜均一性≤2%
  (5)离子铣室倾角范围-75°-75°
  (6)生长材料:Al、Ti
责任工程师:燕军祥
联系方式:82649098 yanjunxiang@iphy.ac.cn
仪器位置:M楼超净间千级区
主要功能及应用范围:

该设备配有进样室、离子铣室、蒸镀室、氧化室。离子铣室用于去除样片表面残胶,蒸镀室用于生长厚度均匀致密的铝膜,氧化室用于在铝膜表面型号才能厚度可控的氧化铝薄膜。该设备用于量子计算的约瑟夫森结的制备