仪器设备

热蒸发系统

型号: RZF400
厂家: 沈阳科学仪器研制中心
技术指标:
  (1)可沉积常见金属材料的薄膜样品
  (2)具有高真空(~10-7Torr ),
   低腔温(<90℃),适合Lift-Off制程要求
  (3)可装载标准的2"和4"的晶片和不规则大小的样品,样品的均匀性 <3%.
  (4)设置3个坩锅,可以完成最多3层的金属薄膜沉积.
  (5)配有膜厚仪实时对膜厚进行检测,实现对薄膜的厚度的精确控制。
责任工程师:
联系方式:82649098 quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    通过电阻加热的方式,将蒸发材料蒸镀到样品表面,获得均匀薄膜。适用于制备金属薄膜,尤其适用于高性能薄膜研究及新材料科学研究工作。