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仪器设备
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加工设备
> 电子束曝光 Raith150
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 氦氖离子显微镜 ORION
> 紫外曝光系统
> DTL光学曝光系统
> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
> 激光干涉曝光系统
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刻蚀设备
> 反应离子刻蚀 Plasma80
> 反应离子刻蚀 NGP80
> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
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生长设备
> 超高真空电子束蒸发系统
> 热蒸发系统 RZF400
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 超高真空联合镀膜系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 化学气相沉积系统 ICP-PECVD
> 微波等离子体化学气相沉积系统
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测量设备
> 超高分辨场发射扫描电镜
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 扫描探针显微镜 SPA-400
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 综合物性测量系统
> 半导体特性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
> 扫描近场光学显微镜
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辅助设备
> 临界点干燥仪
> 切片机
> 晶圆喷胶机
> 三温区真空管式炉
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 超纯水系统
> 显微镜
扫描近场光学显微镜
型号:
Customized attoLIQUID-9T attoSNOM III & CFM microscope
厂家:
德国AttoCube
技术指标:
最低温度:1.8 K 温度稳定性:+/- 0.1 K
磁场:9T @4.2K 激光:630nm /1300nm
SNOM分辨率:<200 nm
CFM分辨率:<650nm
工作模式:反射: 共聚焦(CFM) 近场(SNOM)
透射:近场入射/共聚焦收集 共聚焦入射/近场收集
责任工程师:
田士兵
联系方式:
82648198 tianshibing@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
可用于直接观测纳米材料的表面结构,可观察在不同的低温、强磁场环境下入射探测光与纳米结构在近场的相互作用。