仪器设备

超高真空联合镀膜系统

型号: Peva-600E
厂家: 台湾凯柏
技术指标:
 (1)极限真空:5E-10Torr.
 (2)配备工艺气体:Ar,N2,O2.
 (3)衬底温度加热:750℃.
 (4)激光波长:248nm.
 (5)配备软件操作系统,可编制沉积程序,并可选择进行手动和自动制程.
责任工程师:闫石
联系方式:82649098 yanshi@iphy.ac.cn
仪器位置:M楼201-1
主要功能及应用范围:
    本设备包括磁控溅射沉积、离子束溅射沉积、脉冲激光沉积,以及离子束辅助溅射等功能。
    (1)磁控溅射包括直流和射频磁控溅射,共四支磁控枪,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
    (2)离子束溅射是利用较高能量Ar离子轰击靶材表面,使靶原子脱离靶材表面并沉积到衬底上,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
    (3)脉冲激光沉积是将高功率的脉冲激光聚焦到靶材表面,使局部产生高温高压等离子体,等离子体发生定向膨胀并沉积在衬底上成膜,其特点是薄膜的化学计量比准确,材料多样,沉积温度低等;
    (4)离子束辅助溅射可以利用垂直于衬底方向的Ar离子轰击,实现衬底表面清洁、提高成膜质量、降低颗粒度等功能。