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> 电子束蒸发系统 Peva-600E
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> 扫描探针显微镜 Bruker
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辅助设备
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> 晶圆喷胶机
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> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 超纯水系统
> 显微镜
超高真空联合镀膜系统
型号:
Peva-600E
厂家:
台湾凯柏
技术指标:
(1)极限真空:5E-10Torr.
(2)配备工艺气体:Ar,N
2
,O
2
.
(3)衬底温度加热:750℃.
(4)激光波长:248nm.
(5)配备软件操作系统,可编制沉积程序,并可选择进行手动和自动制程.
责任工程师:
田士兵
联系方式:
82648198 tianshibing@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼201-1
主要功能及应用范围:
本设备包括磁控溅射沉积、离子束溅射沉积、脉冲激光沉积,以及离子束辅助溅射等功能。
(1)磁控溅射包括直流和射频磁控溅射,共四支磁控枪,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
(2)离子束溅射是利用较高能量Ar离子轰击靶材表面,使靶原子脱离靶材表面并沉积到衬底上,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
(3)脉冲激光沉积是将高功率的脉冲激光聚焦到靶材表面,使局部产生高温高压等离子体,等离子体发生定向膨胀并沉积在衬底上成膜,其特点是薄膜的化学计量比准确,材料多样,沉积温度低等;
(4)离子束辅助溅射可以利用垂直于衬底方向的Ar离子轰击,实现衬底表面清洁、提高成膜质量、降低颗粒度等功能。