型号： Peva-600E
厂家： 台湾凯柏
技术指标:
 （1）极限真空：5E-10Torr.
 （2）配备工艺气体：Ar，N₂，O₂.
 （3）衬底温度加热：750℃.
 （4）激光波长：248nm.
 （5）配备软件操作系统，可编制沉积程序，并可选择进行手动和自动制程.
责任工程师：田士兵

    本设备包括磁控溅射沉积、离子束溅射沉积、脉冲激光沉积，以及离子束辅助溅射等功能。
    （1）磁控溅射包括直流和射频磁控溅射，共四支磁控枪，可用于金属、氧化物等材料的沉积；
    （2）离子束溅射是利用较高能量Ar离子轰击靶材表面，使靶原子脱离靶材表面并沉积到衬底上，可用于金属、氧化物等材料的沉积；
    （3）脉冲激光沉积是将高功率的脉冲激光聚焦到靶材表面，使局部产生高温高压等离子体，等离子体发生定向膨胀并沉积在衬底上成膜，其特点是薄膜的化学计量比准确，材料多样，沉积温度低等；
    （4）离子束辅助溅射可以利用垂直于衬底方向的Ar离子轰击，实现衬底表面清洁、提高成膜质量、降低颗粒度等功能。