仪器设备

激光干涉曝光系统

型号: W355-S20
厂家: 笑睿科技
技术指标:
  曝光工作面积:0.8 mm×0.8 mm
  干涉条纹间距调节范围:150nm~700nm
  位移台运动方式:X,Y,Z旋转
责任工程师:全保刚
联系方式:82649098 quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:M楼超净间百级区
主要功能及应用范围:
    W355-S20型光刻机结合了紫外激光干涉技术和位移、旋转控制技术,可在标准基片上进行紫外光刻胶周期性结构的双光束直接曝光。光刻机由紫外激光器、干涉光刻位移台、控制主机等组成。使用双光束干涉技术实现半导体材料的周期性结构曝光;可通过位移台控制样品移动或转动实现多种结构曝光。