仪器设备

热蒸发系统

型号: DZ-300
厂家: 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
技术指标:
  (1)极限真空度:≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后).
  (2)系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7 Pa.l/S.
  (3)系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,45分钟可达到6.67×10-4Pa.
 (4)基片尺寸:可放置4″基片.
 (5)蒸发过程保证样品温度≤80℃.
 (6)基片公转可连续回转,转速5~60转/分,电机驱动磁耦合机构控制;样品可实现自转功能,单独电机驱动,样片基台表面与公转回转中心夹角任意可调.
 (7)基片与蒸发源之间距离300~350mm可调,由腔外手动波纹管调节机构控制.
责任工程师:
联系方式:82649098 quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:M楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    通过电阻加热的方式,将蒸发材料蒸镀到样品表面,获得均匀薄膜。适用于制备金属薄膜,尤其适用于高性能薄膜研究及新材料科学研究工作。