仪器设备

微波等离子体去胶机

型号: PS210
厂家: 美国
技术指标:
  频率:2.456GHz;
  反应气体:氧气;
  样品尺寸:最大6英寸
责任工程师:杨海方
联系方式:82649831 hfyang@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
      微波等离子体去胶机,是半导体工业及从事微纳加工工艺研究的必要设备,主要用于半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中,各类光刻胶的干法去除、基片清洗和电子元件的开封等。主要应用:等离子体表面改性、 有机物表面等离子体清洁、等离子体刻蚀应用、 等离子体灰化应用、 增强或减弱浸润性等。