仪器设备

离子束刻蚀系统

型号: LKJ-1D-150
厂家: 北京埃德万斯离子束技术研究所
技术指标:
  工作气体:Ar
  离子能量可调范围:1~1000 eV
  离子束流密度:1~0.7 mA/cm2
  有效束径:100mm
  刻蚀材料:金属、半导体、氧化物等
  最大晶片尺寸:4英寸主
责任工程师:全保刚
联系方式:82649098 quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    广泛用于金属、氧化物和半导体等多种材料的离子束刻蚀,在掩膜(一般为光刻胶)的保护下形成微/纳结构。在以光刻胶作为掩膜刻蚀金属方面可以获得较高的选择比,因此可起到与反应离子刻蚀系统互补的作用。典型的应用领域:各种微纳电子器件制作;光子晶体和人工超材料;光电器件的制作;离子束减薄等。