仪器设备

反应离子刻蚀 NGP80

型号: PlasmaPro NGP80
厂家: 英国牛津仪器
技术指标:
  反应气体:O2, Ar, CF4,CHF3,SF6
  RF最大功率:300W
  电极尺寸:240mm
  刻蚀材料:硅基材料
  最大晶片尺寸:4英寸
责任工程师:耿广州
联系方式:82649098 gengzz@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    主要用于硅基材料的刻蚀,包括硅、氧化硅、氮化硅等,可用于各种微纳器件与结构的制作,如:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件等,也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。