仪器设备

电子束曝光系统 JBX-6300FS

型号: JBX-6300FS
厂家: 日本电子(JEOL)公司
技术指标:
  电压:100 kV
  SEM分辨率:2 nm
  最小线宽:8 nm
  拼接精度:20 nm
  样品台:配备2 mm ~ 4cm方片,2 inch~6 inch圆晶片以及 2 inch和5 inch掩模版卡槽。
责任工程师:耿广州
联系方式:82649098 genggz@iphy.ac.cn
仪器位置:M楼超净间百级区
主要功能及应用范围:
    采用电子束直接曝光的方法,制作纳米图形结构(最小线宽为8nm)。用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于直写高精度的光刻模板。可用于制作微纳光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件,低维材料输运性质测量的纳米电极,光子晶体与左手材料等