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仪器设备
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加工设备
> 电子束曝光 Raith150
> 电子束曝光 JBX-6300FS
> 聚焦离子束系统 DB235
> 聚焦离子束系统 Helios
> 紫外曝光系统
> DTL光学曝光系统
> 飞秒激光三维直写系统
> 激光直写设备
> 纳米压印机
> 激光干涉曝光系统
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刻蚀设备
> 反应离子刻蚀 Plasma80
> 反应离子刻蚀 NGP80
> 离子束刻蚀系统
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Plasma100
> 电感耦合等离子体反应离子刻蚀 Cobra
> 微波等离子体去胶机
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生长设备
> 热蒸发系统 RZF400
> 热蒸发系统 DZ-300
> 原子层沉积系统
> 电子束蒸发系统 Peva-600E
> 电子束蒸发系统 FU-12PEB
> 超高真空联合镀膜系统
> 等离子体增强化学气相沉积
> 微波等离子体化学气相沉积系统
> 热丝化学气相沉积
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测量设备
> 傅立叶变换光谱仪
> 纳米压痕仪
> 双探针扫描电镜
> 扫描探针显微镜 SPA-400
> 扫描探针显微镜 Bruker
> 综合物性测量系统
> 椭偏仪
> 多通道电化学工作站
> 表面形貌仪
> 白光干涉表面形貌仪
> 低温四探针电学测试平台
> 扫描近场光学显微镜
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辅助设备
> 晶圆喷胶机
> 三温区真空管式炉
> 快速退火炉
> 超声波引线仪
> 超纯水系统
> 显微镜
飞秒激光三维直写系统
型号:
Photonic Professional
厂家:
德国Nanoscribe公司
技术指标:
激光波长:780 nm
激光功率:120 mW
2D分辨率:120 nm
Z轴分辨率:1 μm
样品台移动范围:100 mm X 100 mm
责任工程师
:唐成春
联系方式:
82649098 tangcc@iphy.ac.cn
仪器位置:
M楼超净间百级区
主要功能及应用范围:
飞秒激光三维直写技术可用来加工多维度、跨尺度的复杂三维微纳米结构,在光子晶体、人工超材料、光学微纳器件、微机械器件、微流体结构以及生物器件等领域具有广泛的应用。