仪器设备

紫外曝光系统

型号: MA6
厂家: 德国Karl Süss公司
技术指标:
  曝光光源:UV300
  光源波长:365nm
  光源均匀性:<3.1%
  晶片尺寸:2-6英寸
  接触方式:真空,低真空接触, 硬接触,软接触和接近式接触
  对准模式:正和背面两种对准方式
  最小线宽:0.5 μm
  对准精度: ±0.5 μm
责任工程师:全保刚
联系方式:82649098 quanbaogang@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间百级区
主要功能及应用范围:
    采用紫外光源,制作亚微米(最小线宽0.5 μm)的图形。可用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成,如制作下列器件结构:微电子器件,光电子器件,生物传感器,微机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件等,也是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要辅助工具。