仪器设备

聚焦离子束系统 DB235

型号: DB235
厂家: 美国FEI公司
技术指标:
  电子束分辨率:2 nm
  离子束分辨率:6 nm
  沉积材料:Pt, W等
  增强刻蚀:Si, SiO2
  样品尺寸:最大2英寸
责任工程师:金爱子
联系方式:82648198 azjin@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    该系统为电子束、离子束双束系统。
    聚焦电子束系统可以用于扫描电镜成像,进行样品表面形貌分析。最小分辨率为2nm。
    聚焦离子束用于样品原位加工及表征。离子源为Ga离子源,最小分辨率为6nm。通过聚焦离子束的刻蚀和沉积制作纳米图形(最小线宽为12nm)。用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具;也可用于制备TEM样品和集成电路的失效分析;以及新材料的截面表征以了解材料内部结构等。
    可用于制作下列器件与结构:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器与DNA探测器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件,低维材料输运性质测量的纳米电极,光子晶体等。
    该系统配有纳米操纵探针和原位物性测量系统,可对样品进行纳米尺度的精细操作及原位物性测量。