仪器设备

电子束曝光系统 Raith150

型号: Raith 150
厂家: 德国 Raith公司
技术指标:
  SEM分辨率:2 nm
  最小线宽:12 nm
  拼接精度:20 nm
  样品台:最大6英寸
责任工程师:杨海方
联系方式:82649831 hfyang@iphy.ac.cn
仪器位置:C楼超净间千级区
主要功能及应用范围:
    采用电子束直接曝光的方法,制作纳米图形结构(最小线宽为12nm)。用于各种微纳器件与纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于直写高精度的光刻模板。如可用于制作下列器件与结构:微纳电子器件,光电子器件,生物传感器,微纳机电系统,超导电子学器件,磁电子学器件,低维材料输运性质测量的纳米电极,光子晶体与左手材料等。